UV減粘膜又名UV失膠膠帶、UV減粘膠帶，UV膜是一種特殊的PO涂上基膜UV高粘度膠水。它顯示出高粘接力（1200g~2000g）但紫外線照射后，粘接力急劇下降（5g~10g）由特殊膠水制成的單面膠帶，甚*更低或無(wú)附著力。

  PO基膜是日本采用流延法制成的一種新型基膜，是一種通過(guò)多種工藝制成的未拉伸聚烯烴共聚物膜?；げ牧先彳洠c市場(chǎng)上的傳統(tǒng)相同PE膜及EVA膜具有突出的拉伸強(qiáng)度和抗撕裂強(qiáng)度 采用納米技術(shù)，多工藝、多結(jié)構(gòu)。其表面防水，另一表面防靜電暈處理。無(wú)沉淀物，不易吸收灰塵，達(dá)到長(zhǎng)期保持高透光的效果。抗拉性強(qiáng)，切割時(shí)無(wú)灰塵，耐磨性好，具有紫外線保護(hù)效果。UV減粘膜(失粘膜)和OGS抗酸膜的主要基膜材料。

  目前，一些國(guó)內(nèi)制造商已經(jīng)開(kāi)始開(kāi)發(fā)，但其效果并不令市場(chǎng)滿意。因此，大多數(shù)減粘膜仍然停留在PET基材上！PO基材是一種功能性基膜，用于晶片研磨、切割、精細(xì)電子零件的加工和各種材料的微小零件的加工和切割。目前是各大中小涂料廠UV理想的選材，如減粘膜和抗酸膜。

  UV以下行業(yè)采用減粘膜和抗酸膜：

  1、適用于硅晶片、鋼化玻璃、電子元件、T元器件、MLCC片式電容器，定位切割，PLC切割和制造芯片、晶圓等半導(dǎo)體的工藝保護(hù)，EMC或陶瓷基板LED燈珠，QFN，PCB，半導(dǎo)體芯片密封Package，PLC元器件、光纖頭元器件、晶圓 LDE芯片切割、石英玻璃、 手機(jī)攝像頭玻璃、 濾光片切割QFN和DFN切割等；

  2、半導(dǎo)體晶片表面加工；電子光電工業(yè)零部件生產(chǎn)加工工程；LCD和TP觸摸面板玻璃減薄，研磨拋光；LED切割拋光；藍(lán)寶石基板的薄磨工藝；晶片研磨、切割、各種硅片、封裝基板、陶瓷、玻璃、水晶精細(xì)電子零件等；

  3、PO適用于抗酸膜ITO玻璃、COVER LENS玻璃蓋板化學(xué)強(qiáng)化酸蝕刻工藝保護(hù)；

  4、其他工藝需要高粘度緊密貼合保護(hù)，后期需要易撕裂保護(hù)。

  UV保護(hù)膜的特點(diǎn)：

  1：切割時(shí)粘附力高，照射UV當(dāng)后粘度很低時(shí)，晶片不會(huì)飛走，也不會(huì)殘留膠水。因?yàn)橛泻軓?qiáng)的粘附力來(lái)固定晶圓，即使是小芯片也不會(huì)移位或剝離，可以真正切割。

  2：照射UV快速響應(yīng)時(shí)間，有效提高工作效率，通過(guò)紫外線照射可以控制瞬時(shí)粘著力，即使是大芯片也可以用較輕的力能撿起產(chǎn)品。

  3、在切割過(guò)程中保持晶粒完整(無(wú)晶粒流失)，減少切割過(guò)程中產(chǎn)生的坍塌。

  4、確保晶粒在正常傳輸過(guò)程中不會(huì)位移或脫落，水不會(huì)滲入晶粒和膠帶。

  5、Uv固化晶圓切割保護(hù)膜的特點(diǎn)是uv固化前有普通保護(hù)膜無(wú)法比擬的超高粘度(能達(dá)到驚人的效果1500g-2000g gf/25mm） 在經(jīng)過(guò)uv紫外線照射后，粘度可變成超低粘度15g-20g。粘力克數(shù)甚*更低。

  6、另一個(gè)特點(diǎn)是還有一個(gè)特點(diǎn)PO基材具有很強(qiáng)的(橫向和縱向)延展性（elongation可達(dá)300 ，600。

  來(lái)源：東

  2019膜涂工藝研討會(huì)

  時(shí)間：2019年5月30日

  地點(diǎn)：東莞

  人群:設(shè)備制造商、材料制造商、涂料廠等上下游企業(yè)

  探討話題

  1、 常用的薄膜表/界面微結(jié)構(gòu)和性能分析討論涂料產(chǎn)品的質(zhì)量；

  ①常用的薄膜基材表面分析；

  ②常用涂布液的分析介紹；

  ③膜/涂層液界面分析

  2、 設(shè)備和工藝浸潤(rùn)(潤(rùn)濕)涂布液和膜界面

  ①介紹涂裝設(shè)備的分類和特點(diǎn)；

  ②針對(duì)各類涂布工藝的疑難及案例分析。

  3、 涂層改性研究薄膜表/界面

  ①膜涂改性介紹；

  ②膜涂改性分析；

  ③膜涂改性工藝；

  ④膜涂改性發(fā)展方向。

  咨詢：莫